[发明专利]真空浇注系统在审
| 申请号： | 202110215087.4 | 申请日： | 2021-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN113000821A | 公开（公告）日： | 2021-06-22 |
| 发明（设计）人： | 井峰;邝光照;王月;侯海文;林伟林;罗镇江 | 申请（专利权）人： | 中山凯旋真空科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B22D18/06 | 分类号： | B22D18/06;B22D41/12;B22D46/00 |
| 代理公司： | 北京律智知识产权代理有限公司 11438 | 代理人： | 孙宝海;阚梓瑄 |
| 地址： | 528478 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提出一种真空浇注系统，其包含浇注罐、浇注机构、混料机构、真空机构、脱气机构以及控制机构；浇注罐具有罐腔，罐腔底部设置有第一输送单元，第一输送单元的输送方向为第一水平方向；浇注机构可升降且可水平调节地设置于罐腔内，浇注机构的水平调节方向为垂直于第一水平方向的第二水平方向；混料机构连接于浇注机构，用以提供浇注物料；真空机构连接于罐腔，用以对罐腔抽真空；脱气机构连接于罐腔，用以对罐腔脱气；控制机构分别连接并控制第一输送单元、浇注机构、混料单元、真空单元和脱气单元。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 浇注 系统 | ||
【主权项】：
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