[发明专利]真空浇注系统

权利要求书

1.一种真空浇注系统，其特征在于，包含：

浇注罐，具有罐腔，所述罐腔底部设置有第一输送单元，所述第一输送单元的输送方向为第一水平方向；

浇注机构，可升降且可水平调节地设置于所述罐腔内，所述浇注机构的水平调节方向为垂直于所述第一水平方向的第二水平方向；

混料机构，连接于所述浇注机构，用以提供浇注物料；

真空机构，连接于所述罐腔，用以对所述罐腔抽真空；

脱气机构，连接于所述罐腔，用以对所述罐腔脱气；

控制机构，分别连接并控制所述第一输送单元、所述浇注机构、所述混料单元、所述真空单元和所述脱气单元。

2.根据权利要求1所述的真空浇注系统，其特征在于，所述浇注罐的罐门通过开关门机构可开闭地设置于所述浇注罐，用以封闭所述罐腔，所述开关门机构包含梁架，所述梁架沿水平方向或者竖直方向布置并设置有滑道；其中，所述罐门设置有滑动部，所述滑动部与所述滑道滑移配合。

3.根据权利要求2所述的真空浇注系统，其特征在于，所述罐门与所述梁架之间设置有第一驱动单元，所述第一驱动单元用以驱动所述罐门滑移；其中，所述控制机构连接并控制所述第一驱动单元。

4.根据权利要求2所述的真空浇注系统，其特征在于，所述梁架沿所述第二水平方向布置，以使所述罐门通过沿所述第二水平方向的滑移而实现开关。

5.根据权利要求1所述的真空浇注系统，其特征在于，所述浇注机构包含第一支架、第二支架以及浇注嘴，所述第一支架可升降地设置于所述罐腔内，所述第二支架可沿所述第二水平方向调节地连接于所述第一支架，所述浇注嘴设置于所述第二支架；其中，所述混料机构连接于所述浇注嘴。

6.根据权利要求5所述的真空浇注系统，其特征在于，所述第一支架与所述浇注罐之间设置有第二驱动单元，所述第二驱动单元用以驱动所述第一支架升降，所述控制机构连接并控制所述第二驱动单元；和/或，所述第二支架与所述第一支架之间设置有第三驱动单元，所述第三驱动单元用以驱动所述第二支架平移，所述控制机构连接并控制所述第三驱动单元。

7.根据权利要求6所述的真空浇注系统，其特征在于，所述第二驱动单元包含液压缸，所述液压缸的缸筒相对固定于所述浇注罐顶部，所述液压缸的缸杆伸入所述罐腔并连接于所述第一支架。

8.根据权利要求7所述的真空浇注系统，其特征在于，所述缸杆包含第一杆、多根第二杆以及连接杆，所述第一杆可伸缩地连接于所述缸筒，所述多根第二杆顶端通过所述连接杆分别连接于所述第一杆底端，所述多根第二杆底端分别伸入所述罐腔并连接于所述第一支架。

9.根据权利要求7所述的真空浇注系统，其特征在于，所述浇注罐顶部设置有防护罩，所述防护罩罩设于所述液压缸的外围的至少一部分。

10.根据权利要求1所述的真空浇注系统，其特征在于，所述真空浇注系统还包含送料机构，所述送料机构设置于所述浇注罐的设置有罐门的一侧，所述送料机构设置有第二输送单元，所述第二输送单元的设置高度与所述第一输送单元的设置高度相同，所述控制机构连接并控制所述第二输送单元。