[发明专利]等离子体处理装置、半导体部件和边缘环在审
| 申请号： | 202110200407.9 | 申请日： | 2021-02-23 |
| 公开（公告）号： | CN113363129A | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 黑泽阳一;松山昇一郎;佐佐木康晴;舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;徐飞跃 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种等离子体处理装置、半导体部件和边缘环。等离子体处理装置包括半导体部件和供电部。半导体部件构成内部能够实施等离子体处理的腔室的至少一部分或者配置在腔室内，且使用有半导体材料。供电部向半导体部件供给电力或将半导体部件设为GND电位。而且，等离子体处理装置至少在半导体部件与供电部接触的接触面设置有导电部。根据本发明，能够抑制半导体部件与供电部间的异常放电的发生。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 半导体 部件 边缘 | ||
【主权项】：
暂无信息
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