[发明专利]有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物在审
申请号: | 202110190159.4 | 申请日: | 2021-02-18 |
公开(公告)号: | CN113281964A | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
发明(设计)人: | 郡大佑;泽村昂志;新井田惠介;橘诚一郎 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;C08G8/04;C08G8/20;G03F7/09;G03F7/11 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: |
本发明涉及有机膜形成用材料、图案形成方法、以及聚合物。本发明的课题是提供可形成溶剂耐性、耐热性、填埋特性、平坦化特性及图案形成能力优异的有机膜的有机膜形成用材料。一种有机膜形成用材料,含有以下列通式(1A)表示的结构作为部分结构的聚合物及有机溶剂。 |
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搜索关键词: | 有机 形成 用材 图案 方法 以及 聚合物 | ||
【主权项】:
暂无信息
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