[发明专利]等离子体处理装置及等离子体处理方法在审
| 申请号： | 202110189890.5 | 申请日： | 2021-02-18 |
| 公开（公告）号： | CN113327834A | 公开（公告）日： | 2021-08-31 |
| 发明（设计）人： | 舆水地盐 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 任玉敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的等离子体处理装置具备等离子体处理腔室、基板支承器、偏置电源及高频电源。基板支承器配置于等离子体处理腔室内且包括电极。偏置电源与电极结合，构成为产生具有第1频率的偏置电力。高频电源与等离子体处理腔室结合，构成为产生具有比第1频率高的第2频率的高频电力。高频电力在偏置电力的一个周期内的第1期间具有第1功率电平，在偏置电力的一个周期内的第2期间具有比第1功率电平低的第2功率电平。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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