[发明专利]降低叠氮化亚铜薄膜静电感度的方法有效
| 申请号： | 202110159634.1 | 申请日： | 2021-02-05 |
| 公开（公告）号： | CN112899746B | 公开（公告）日： | 2022-04-08 |
| 发明（设计）人： | 张文超;杨格行;俞春培;陈亚杰;徐建勇;宋长坤;陈俊宏;刘佳琪;邬润辉 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C25D9/02 | 分类号： | C25D9/02;C25D5/54;C25D5/18;C25D21/12;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 刘海霞 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种降低叠氮化亚铜薄膜静电感度的方法。所述方法以叠氮化亚铜薄膜材料作为阳极，以含有吡咯的溶液为电解液，在通电条件下吡咯在阳极完成电聚合反应，得到叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜。本发明利用电化学方法，在液相环境中直接制备叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜，简单高效，制备过程安全，可操作性强，适用性强，适用范围广。同时，制备工艺与MEMS工艺兼容，可将叠氮化亚铜/聚吡咯复合含能薄膜直接集成到点火芯片上。 | ||
| 搜索关键词： | 降低 氮化 薄膜 静电 方法 | ||
【主权项】：
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