[发明专利]一种化学机械抛光控制方法及控制系统有效
| 申请号： | 202110153781.8 | 申请日： | 2021-02-04 |
| 公开（公告）号： | CN112936085B | 公开（公告）日： | 2022-09-16 |
| 发明（设计）人： | 赵德文;倪孟骐 | 申请（专利权）人： | 华海清科股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/10;B24B37/005;B24B41/00;B24B49/10;B24B49/12 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 300350 天津市津*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光控制方法及控制系统，所述化学机械抛光控制方法包括：使用具有多个压力腔室的承载头抛光晶圆，所述压力腔室将晶圆表面对应划分为多个分区，控制所述压力腔室的抛光参数以调节晶圆各个分区的形貌；所述分区设定有多个采集点，加权处理所述分区中采集点的测量值，根据加权处理的测量值计算晶圆的实测形貌；比对晶圆的实测形貌与目标形貌的差异，优化所述压力腔室对应的抛光参数。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 控制 方法 控制系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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