[发明专利]形成光刻胶图案的方法在审
| 申请号： | 202110129755.1 | 申请日： | 2021-01-29 |
| 公开（公告）号： | CN114815500A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 苏萌;杨明;宋延林 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;B41M1/26;B41M1/12 |
| 代理公司： | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人： | 刘依云;刘亭亭 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及光刻胶图案印刷领域，具体涉及一种形成光刻胶图案的方法，该方法包括以下步骤：(1)制备得到墨水填充在模板与基底之间的夹层印刷结构；其中，所述模板具有预设图案，所述墨水含有光刻胶和溶剂，所述墨水中光刻胶的浓度为0.001‑100重量％；(2)将所述夹层印刷结构进行溶剂蒸发，然后取下所述模板。本发明的方法简单高效，完全摆脱了传统光刻技术对光刻机与光刻胶的苛刻要求，无需复杂光路系统对焦，无需掩模版对光刻胶区域化曝光，免除显影过程，减小了化学反应对光刻胶成形的负面影响，且光刻胶图案精度高，可达微纳米级，且结构完整性和规整性均较好，可印刷图案丰富。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 光刻 图案 方法 | ||
【主权项】：
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