[发明专利]形成光刻胶图案的方法在审

专利信息
申请号: 202110129755.1 申请日: 2021-01-29
公开(公告)号: CN114815500A 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 苏萌;杨明;宋延林 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/16;B41M1/26;B41M1/12
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 刘依云;刘亭亭
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 形成 光刻 图案 方法
【权利要求书】:

1.一种形成光刻胶图案的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

(1)制备得到墨水填充在模板与基底之间的夹层印刷结构;其中,所述模板具有预设图案,所述墨水含有光刻胶和溶剂,所述墨水中光刻胶的浓度为0.001-100重量%;

(2)将所述夹层印刷结构进行溶剂蒸发,然后取下所述模板。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述墨水中光刻胶的浓度为0.01-80重量%,优选为0.01-20重量%,进一步优选为0.1-10重量%。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其中,所述光刻胶选自PCB光刻胶、LCD光刻胶和半导体光刻胶中的至少一种;

优选地,所述光刻胶选自聚乙烯醇肉桂酸脂类光刻胶、环化橡胶-双叠氮类光刻胶、环氧类光刻胶、酚醛树脂-重氮萘醌类光刻胶、聚对羟基苯乙烯类光刻胶、聚丙烯酸酯类光刻胶、降冰片烯-马来酸酐及其衍生物类光刻胶、有机-无机杂化树脂类光刻胶、产酸剂接枝聚合物主链类光刻胶、含氟和/或硅的聚合物类光刻胶、聚碳酸酯类光刻胶、主链断裂类光刻胶、分子玻璃类光刻胶、树枝状聚合物类光刻胶、含富勒烯体系光刻胶、聚二甲基硅氧烷类光刻胶和有机无机杂化纳米粒子型光刻胶中的至少一种;

优选地,所述主链断裂类光刻胶选自聚甲基丙烯酸甲酯、聚醚、聚烯烃和聚砜中的至少一种;

优选地,所述分子玻璃类光刻胶选自支化型、四面体型、树枝状型、杯芳烃型、多元酚型和聚噻吩型的光刻胶中的至少一种。

4.根据权利要求1-3中任意一项所述的方法,其中,所述溶剂选自醇、醚、酯、酮、烷烃、砜类有机溶剂、酰胺类有机溶剂和芳烃类溶剂中的至少一种;

优选地,所述溶剂选自脂肪醇、乙酸乙酯、乙酸丁酯、氯苯、二氯苯、丙酮、γ-丁内脂、甲乙酮、甲基异丁基酮、乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二甲基亚砜、丙二醇甲醚醋酸酯、环戊酮、环已酮、正己烷、2-甲氧基-1-丙醇乙酸酯、碳酸丙二醇酯、N,N-二甲基甲酰胺、苯甲醚、甲苯、二甲苯、N-甲基吡咯烷酮、2-异丙氧基乙醇和3-乙氧基丙酸乙酯中的至少一种;

优选地,所述脂肪醇选自碳原子数为2-10的醇,更优选选自乙醇、乙二醇、异丙醇和正丁醇中的至少一种;

优选地,所述溶剂的沸点≥80℃;

优选地,所述溶剂选自丙二醇甲醚醋酸酯、二甲苯、N,N-二甲基甲酰胺、苯甲醚、二氯苯、二甲基亚砜、2-异丙氧基乙醇、γ-丁内脂和环戊酮中的至少一种。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的方法,其中,所述基底选自具有或不具有涂层的刚性基底或柔性基底;

优选地,所述刚性基底选自硅片、石英片、玻璃片、有机玻璃、铁片、铜片和铝片中的至少一种;

优选地,所述柔性基底选自柔性聚硅氧烷、聚酯和尼龙中的至少一种;

优选地,所述涂层选自氮化硅、氮氧化硅、氮化钛、氮化钽和金属单质中的至少一种;

优选地,所述金属单质选自钛、钽、铜、铝、钨及其合金或其组合物中的至少一种。

6.根据权利要求1-5中任意一项所述的方法,其中,步骤(2)中,所述溶剂蒸发的温度使得所述溶剂进行蒸发;

优选地,所述溶剂蒸发的温度为0-150℃,进一步优选为5-100℃,更优选为20-100℃;

优选地,所述溶剂蒸发的时间使得所述溶剂完全蒸发;

优选地,所述溶剂蒸发的时间为1-300min,更优选为5-120min。

7.根据权利要求1-6中任意一项所述的方法,其中,所述预设图案与所需印刷的光刻胶图案的花纹形状相同,且所述预设图案的花纹尺寸≥所需印刷的光刻胶图案的花纹尺寸;

优选地,步骤(1)中所述夹层印刷结构中,所述模板的预设图案与所述基底之间的最短距离为1μm-30μm,优选为1μm-10μm;

优选地,所述预设图案为微米级以上图案,所需印刷的光刻胶图案为纳米级以上图案。

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