[发明专利]一种氢取代石墨二炔薄膜及其制备方法和应用在审
| 申请号： | 202110109853.9 | 申请日： | 2021-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN112850687A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 袁春雪;吴佳盛 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | C01B32/15 | 分类号： | C01B32/15 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 许耀 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明涉及一种氢取代石墨二炔薄膜及其制备方法和应用，将1,3,5‑三(溴代乙炔基)苯溶于溶剂，以铜箔或任意表面覆盖铜薄膜层的基底为基底，加入氢氧化钠水溶液，在铜的催化作用下1,3,5‑三(溴代乙炔基)苯在基底表面发生脱卤偶联反应，得到所述的氢取代石墨二炔薄膜。与现有技术相比，本发明采用的前体分子在空气中稳定性更高，反应条件更温和，且反应时间也显著缩短。本发明制备的氢取代石墨二炔具有大孔/介孔二级结构，析氢、析氧过电位分别为531mV和646mV，在电化学催化、电解水等领域具有作为电极材料的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 取代 石墨 薄膜 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于同济大学，未经同济大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202110109853.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
