[发明专利]一种透镜阵列的横向位置误差三维度量方法及系统在审

专利信息
申请号: 202110080245.X 申请日: 2021-01-21
公开(公告)号: CN113654458A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 荆涛;毛岩;闫兴鹏;蒋晓瑜;刘云鹏;汪熙;刘新蕾 申请(专利权)人: 中国人民解放军陆军装甲兵学院
主分类号: G01B11/00 分类号: G01B11/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 刘凤玲
地址: 100072*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明涉及一种透镜阵列的横向位置误差三维度量方法及系统,涉及误差度量技术领域,该方法通过根据理想透镜阵列中心和重构点确定重构的光线在LCD显示屏的相交区域;根据所述相交区域和实际透镜阵列中心确定光线参数方程;所述光线参数方程对应的光线为经过所述实际透镜阵列中心与空间散射区域相切的光线;根据所述光线参数方程和切点确定所述空间散射区域的位置信息;所述切点为经过所述实际透镜阵列中心的光线与所述空间散射区域的切点;所述位置信息包括所述空间散射区域的球心坐标和所述空间散射区域的半径;根据所述位置信息确定透镜阵列的横向位置误差。本发明能够实现对三维条件下的阵列横向位置误差的准确度量。
搜索关键词: 一种 透镜 阵列 横向 位置 误差 三维 度量 方法 系统
【主权项】:
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