[发明专利]一种晶圆级计量标准器及其制备方法在审
| 申请号： | 202110069987.2 | 申请日： | 2021-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN112881960A | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 饶张飞;秦凯亮;金红霞 | 申请（专利权）人： | 西安微电子技术研究所 |
| 主分类号： | G01R35/00 | 分类号： | G01R35/00;G01B21/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人： | 崔方方 |
| 地址： | 710065 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种晶圆级计量标准器及其制备方法，属于微纳米二维栅格计量标准器领域。一种晶圆级计量标准器，包括晶圆，晶圆上设有多晶硅薄膜；多晶硅薄膜上设有图形区域，图形区域外围设有一级引导标记；图形区域包括二维栅格标准图形区域和位于其外围的二级引导标记；二维栅格标准图形区域内设有一个或多个标准图形。本发明的晶圆级计量标准器，在使用时具有一级和二级引导标记，能够快速寻找到相应的标准结构，使用方便快捷，能够进行集成电路产线测量设备的在线校准。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶圆级 计量 标准 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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