[发明专利]一种超薄Gd掺杂T1在审

专利信息
申请号: 202110021630.7 申请日: 2021-01-08
公开(公告)号: CN112826946A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 李强;李鑫;戴梦婷;王文慧;缪佳燕;衡月容;于翠艳;刘苏苏;潘鑫 申请(专利权)人: 华东师范大学
主分类号: A61K49/12 分类号: A61K49/12;A61K49/18;B82Y25/00;B82Y30/00;B82Y40/00
代理公司: 上海蓝迪专利商标事务所(普通合伙) 31215 代理人: 徐筱梅;张翔
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种超薄Gd掺杂T1‑T2双模MRI造影剂及其制备方法,该方法制备的超薄单层Gd掺杂T1‑T2双模MRI造影剂,以聚丙烯酸钠(PAA)为分散剂和剥离剂,冰水浴下超声得到了Gd掺杂的超薄单层氢氧化钇纳米片溶胶,具有超高的r1和r2弛豫率。本发明制备的超薄Gd掺杂T1‑T2双模MRI造影剂纳米片具有二维结构间隙性Gd掺杂结构单层结构,极高的Gd原子利用率且制备方法简单,稳定性高,亲水性好。
搜索关键词: 一种 超薄 gd 掺杂 base sub
【主权项】:
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