[发明专利]一种超薄Gd掺杂T1

说明书

本发明公开了一种超薄Gd掺杂T₁‑T₂双模MRI造影剂及其制备方法，该方法制备的超薄单层Gd掺杂T₁‑T₂双模MRI造影剂，以聚丙烯酸钠（PAA）为分散剂和剥离剂，冰水浴下超声得到了Gd掺杂的超薄单层氢氧化钇纳米片溶胶，具有超高的r₁和r₂弛豫率。本发明制备的超薄Gd掺杂T₁‑T₂双模MRI造影剂纳米片具有二维结构间隙性Gd掺杂结构单层结构，极高的Gd原子利用率且制备方法简单，稳定性高，亲水性好。

技术领域

本发明涉及化学合成材料技术及其应用，具体地说是一种超薄Gd掺杂T₁-T₂双模MRI造影剂及其制备方法。

背景技术

对于肿瘤等恶性疾病的临床诊疗中，MRI检测日益彰显愈发重要的作用。目前，40-50%的临床MRI检查已经使用造影剂来提高灵敏度，以区分背景组织和有诊断价值的区域。对于钆基造影而言，通常为T₁造影剂可以增强信号强度，生成正对比度增强的更亮图像，具有较高的图像敏度和空间配准精度，但缺乏有益的高对比度噪声比。以铁基造影剂为主的T₂造影剂在T₂加权中提供负对比度增强(较暗图像)，虽然对病变与正常组织的区分具有较高的灵敏度，但其固有因素导致的负对比度效应和磁化率伪等问题对T₂造影剂开发和应用带来了巨大的挑战。与此同时双模式造影剂充分发扬两种模式的优点做到了优势互补，大大提高了对病灶区域诊疗的准确度，对于肿瘤的临床诊疗的研究具有十分重大的意义。

传统的Gd配合物造影剂及新开发的各种纳米钆颗粒造影剂，由于结构限制，造影性能不太理想（商用造影剂r₁只有约3-5 mM^-1 s^-1），而钆由于具有一定的毒性，希望能够大幅降低Gd的用量，提升造影剂性能。与此同时，二维纳米材料以其具有高的比表面积在制备高弛豫的造影剂方面崭露头角。

发明内容

本发明的目的是提供一种超薄Gd掺杂T₁-T₂双模MRI造影剂及其制备方法，其造影剂具有二维结构间隙性Gd掺杂结构单层结构，极高的Gd原子利用率且制备方法简单，稳定性高，亲水性好。

实现本发明目的的具体技术方案是：

一种超薄Gd掺杂T₁-T₂双模MRI造影剂的制备方法，该方法包括以下具体步骤：

步骤1：取Gd掺杂的[ Y_1.8Gd_0.2(OH)₅(H₂O)_n] C₆H₅COO稀土氢氧化物层状材料粉体及聚丙烯酸钠（PAA）于蒸馏水中充分混合均匀；其中，所述粉体与聚丙烯酸钠的质量比为1:0.05-2；1≤n≤2；

步骤2：在0℃冰水浴条件下，以90-110w的功率，细胞粉碎仪超声5–20 min ，室温静置24-48 h后，取上层清液，制得所述超薄Gd掺杂T₁-T₂双模MRI造影剂，该造影剂为表面带负电荷的 [ Y_1.8Gd_0.2(OH)₅(H₂O)n] C₆H₅COO超薄纳米片溶胶。