[发明专利]三维半导体存储器装置在审
申请号: | 202110012743.0 | 申请日: | 2021-01-06 |
公开(公告)号: | CN113451327A | 公开(公告)日: | 2021-09-28 |
发明(设计)人: | 金成吉;金智美;金廷奂 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L27/11578 | 分类号: | H01L27/11578;H01L27/11582;H01L27/11568 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 田野;韩芳 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种半导体存储器装置。所述半导体存储器装置包括:基底,具有单元阵列区域和连接区域;电极结构,包括堆叠在基底上的电极并且在连接区域上具有阶梯结构;垂直沟道结构,位于单元阵列区域上以穿透电极结构并且电连接到基底;虚设结构,位于连接区域上以穿透阶梯结构;以及第一侧壁氧化物图案,置于基底与虚设结构之间。虚设结构包括位于基底上的上部分、与第一侧壁氧化物图案接触的中间部分以及位于中间部分下方的下部分。随着距上部分的垂直距离增大,中间部分的直径减小直到中间部分的直径达到其最小值,然后增大。 | ||
搜索关键词: | 三维 半导体 存储器 装置 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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