[发明专利]量测方法在审
| 申请号： | 202080089819.3 | 申请日： | 2020-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN114846411A | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | E·巴德尔 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 张宁 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种量测方法，包括：在衬底上执行第一次曝光，以形成包括多个第一目标单位的第一图案化层，每个第一目标单位包括第一目标特征；在衬底上执行第二次曝光，以形成第二图案化层，该第二图案化层包括与相应一些第一目标单位套刻的多个第二目标单位，每个第二目标单位具有第二目标特征，其中多个第二目标单位中的一些第二目标单位具有相对于参考位置分别以不同的偏移被定位的第二目标特征：对套刻在第一目标单位上的第二目标单位进行成像；以及基于第二目标单位中的第二目标特征的边缘相对于在下面的第一目标单位的第一目标特征的边缘的位置，确定边缘放置误差。 | ||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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