[发明专利]具有最小氟含量的小干扰RNA的化学修饰在审
| 申请号： | 202080082980.8 | 申请日： | 2020-10-02 |
| 公开（公告）号： | CN114761557A | 公开（公告）日： | 2022-07-15 |
| 发明（设计）人： | W·王;N·纳泽夫 | 申请（专利权）人： | 迪克纳制药公司 |
| 主分类号： | C12N15/113 | 分类号： | C12N15/113 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 黄登高;初明明 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供用于降低基因的表达或活性的寡核苷酸、其组合物以及使用方法，所述寡核甘酸包含2’‑O‑甲基(2’‑OMe)和2’‑脱氧‑2’‑氟(2’‑F)修饰。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 最小 含量 干扰 rna 化学 修饰 | ||
【主权项】：
暂无信息
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