[发明专利]以氮化钛为主的保形薄膜及其形成方法在审
| 申请号： | 202080081326.5 | 申请日： | 2020-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN114746575A | 公开（公告）日： | 2022-07-12 |
| 发明（设计）人： | N·慕克吉;金海英;J·麦克;许在锡;郑昇勋;S·J·拉蒂;S·丘格;N·纳吉博拉什拉菲;奥山美一;B·B·尼 | 申请（专利权）人： | 尤金纳斯股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/455;C23C16/04;H01L21/02;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 顾晨昕 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开的技术大体上涉及形成以氮化钛为主的薄膜，且更特定来说，涉及以氮化钛为主的保形及平滑薄膜及其形成方法。在一个方面中，形成包括TiSiN或TiAlN中的一或两者的薄膜的方法包括在反应腔室中大于1托的压力下使半导体衬底暴露到一或多个气相沉积循环，其中多个所述气相沉积循环包括暴露到钛(Ti)前体、暴露到氮(N)前体及暴露到硅(Si)前体或铝(Al)前体中的一或两者。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化 为主 薄膜 及其 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
