[发明专利]用于基底的化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统在审
| 申请号: | 202080076217.4 | 申请日: | 2020-09-01 |
| 公开(公告)号: | CN114630927A | 公开(公告)日: | 2022-06-14 |
| 发明(设计)人: | 安德烈亚斯·格莱斯纳;佛朗兹·马库特;罗斯·库尔泽;赫伯特·奥茨林格 | 申请(专利权)人: | 塞姆西斯科有限责任公司 |
| 主分类号: | C25D3/38 | 分类号: | C25D3/38;C25D19/00;C25D17/10;C25D17/02;C25D21/12 |
| 代理公司: | 上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327 | 代理人: | 潘彦君 |
| 地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | 本发明涉及一种用于对基底进行化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统、一种用于在工艺流体中对基底进行化学和/或电解表面处理的模块、一种用于金属沉积应用的电化学沉积系统或化学和/或电解表面处理模块的用途、以及一种用于对基底进行化学和/或电解表面处理的电化学沉积系统的制造方法。所述电化学沉积系统包括阳极、阳极外壳和单一电解液。阳极外壳至少部分地围绕阳极延伸。阳极外壳包括膜。阳极和阳极外壳被放置在单一电解液中。单一电解液是电化学沉积系统的唯一电解液。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 基底 化学 电解 表面 处理 电化学 沉积 系统 | ||
【主权项】:
暂无信息
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