[发明专利]经由双通光场重建的样本成像在审
| 申请号： | 202080071626.5 | 申请日： | 2020-08-11 |
| 公开（公告）号： | CN114556411A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 雷蒙德·莱特纳;扬·施泰因布伦纳 | 申请（专利权）人： | 分子装置（奥地利）有限公司 |
| 主分类号： | G06T5/50 | 分类号： | G06T5/50;G02B21/36 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 麦善勇;张天舒 |
| 地址： | 奥地利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 用于经由双通光场重建的样本成像的方法和系统。在示例性方法(50)中，可以在光场平面(76)中捕获样本(74)的光场图像(72)。光场图像(72)可以被计算地正向投影到对象空间(78)中的多个z平面中的每一个，以生成一组正向投影的z平面图像(88a‑f)。可以计算将从每个z平面图像的对象空间(78)中的相同xy区域向光场平面(76)的反向投影与光场图像(72)进行比较，以确定来自z平面图像(88a‑f)中的每一个的反向投影的xy区域与光场图像(72)之间的相应对应程度。对于每个不同的xy区域，可以选择正向投影的z平面图像(88a‑f)中的至少一个来贡献用于样本(74)的2D或3D对象空间图像中的不同的xy区域的数据。 | ||
| 搜索关键词： | 经由 双通光场 重建 样本 成像 | ||
【主权项】：
暂无信息
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