[发明专利]经由双通光场重建的样本成像在审
| 申请号: | 202080071626.5 | 申请日: | 2020-08-11 |
| 公开(公告)号: | CN114556411A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
| 发明(设计)人: | 雷蒙德·莱特纳;扬·施泰因布伦纳 | 申请(专利权)人: | 分子装置(奥地利)有限公司 |
| 主分类号: | G06T5/50 | 分类号: | G06T5/50;G02B21/36 |
| 代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 麦善勇;张天舒 |
| 地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 经由 双通光场 重建 样本 成像 | ||
1.一种对样本(74)成像的方法(50),所述方法(50)包括:
(a)在光场平面(76)中捕获样本(74)的光场图像(72);
(b)将所述光场图像(72)计算正向投影到对象空间(78)中的多个z平面中的每一个,以生成z平面图像(88a-f)集合;
(c)关于所述光场图像(72),比较来自每个z平面图像的对象空间(78)中的相同的xy区域向所述光场平面(76)的反向投影,以确定来自所述z平面图像(88a-f)中的每一个的反向投影的xy区域与所述光场图像(72)之间的相应对应程度,其中,针对对象空间(78)中的多个不同的xy区域中的每一个重复比较;
(d)基于针对每个不同的xy区域的比较,选择所述z平面图像(88a-f)中的至少一个以贡献所述样本(74)的对象空间图像中的所述不同的xy区域的数据;以及
(e)生成所述样本(74)的所述对象空间图像。
2.根据权利要求1所述的方法(50),其中,所述不同的xy区域中的每一个对应于所述集合的z平面图像(88a-f)中的每一个中的单个像素。
3.根据权利要求1所述的方法(50),其中,所述不同的xy区域的至少一个对应于像素组或对象。
4.根据权利要求1所述的方法(50),其中,所生成的所述对象空间图像是二维图像。
5.根据权利要求4所述的方法(50),其中,所述二维图像实质上都是对焦的。
6.根据权利要求1所述的方法(50),其中,所述对象空间图像是三维图像。
7.根据权利要求6所述的方法(50),其中,所述三维图像实质上都是对焦的。
8.根据权利要求1所述的方法(50),其中,选择包括针对所述不同的xy区域中的至少一个xy区域仅选择所述z平面图像(88a-f)中的、所述对应程度高于所述集合中的每个其他z平面图像的一个z平面图像。
9.根据权利要求1所述的方法(50),其中,选择包括针对所述不同的xy区域中的至少一个xy区域选择所述z平面图像(88a-f)中的、反向投影的所述相应对应程度高于所述集合中的每个其它z平面图像的至少两个z平面图像。
10.根据权利要求9所述的方法(50),还包括将给定xy区域的反向投影的所述相应对应程度与阈值进行比较,其中,选择包括选择所述相应对应程度的比较满足预定义条件的每个z平面图像。
11.根据权利要求1所述的方法(50),其中,选择包括为对象空间(78)中的像素组或单个像素选择对象空间(78)中的最佳z平面,并且其中,生成包括生成所述样本(74)的实质上全对焦的三维图像。
12.根据权利要求1所述的方法(50),其中,选择包括为对象空间(78)中的像素组或单个像素选择对象空间(78)中的最佳z平面,并且其中,生成包括生成所述样本(74)的实质上全对焦的二维图像。
13.根据权利要求1所述的方法(50),其中,选择包括针对对象空间(78)中的多个单个像素或像素组中的每一个选择对象空间(78)中的两个或更多个z平面,还包括组合来自针对每个单个像素或像素组选择的所述两个或更多个z平面的信息。
14.根据权利要求13所述的方法(50),其中,组合信息包括对来自所选择的两个或更多个z平面的单个像素或像素组的值进行平均或插值。
15.根据权利要求13所述的方法(50),其中,组合信息基于来自所选择的所述两个或更多个z平面的所述单个像素或像素组的所述相应对应程度。
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