[发明专利]晶片检验方法和系统在审
| 申请号： | 202080063193.9 | 申请日： | 2020-09-08 |
| 公开（公告）号： | CN114365183A | 公开（公告）日： | 2022-04-15 |
| 发明（设计）人： | J.C.萨拉斯瓦图拉;P.胡思沃尔 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | G06T7/00 | 分类号： | G06T7/00;G06T7/11;G06T7/136 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 晶片检验方法和系统包括将经获取图像转换为多边形链表示(21)。多边形链表示被转换为特征向量(23)。将特征向量与基于设计数据(26)获得的其他特征向量进行比较。 | ||
| 搜索关键词： | 晶片 检验 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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