[发明专利]多区段式基座的温度控制在审
申请号: | 202080058573.3 | 申请日: | 2020-06-22 |
公开(公告)号: | CN114269969A | 公开(公告)日: | 2022-04-01 |
发明(设计)人: | 拉梅什·钱德拉塞卡拉;迈克尔·菲利普·罗伯茨;亚伦·宾汉;阿施施·索拉卜;阿德里安·拉沃伊;普尔凯特·阿加瓦尔;拉维·库马尔 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/458;C23C16/52;H01L21/67 |
代理公司: | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人: | 李献忠;张华 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种处理半导体衬底的系统包含:衬底支撑件组件,其被配置成支撑所述半导体衬底。所述衬底支撑件组件包含:M个电阻加热器,其被分别设置于所述衬底支撑件组件的层中的M个区段中,其中M为大于1的整数。所述层邻近于所述半导体衬底。所述衬底支撑件组件包含:N个温度传感器,其被设置于所述层中的N个位置处,其中N为大于1且小于或等于M的整数。所述系统还包括:控制器,其被配置成基于由所述N个温度传感器中的一者所感测的温度和所述M个区段中的一或多者的平均温度而控制所述M个电阻加热器中的一或多者。 | ||
搜索关键词: | 区段 基座 温度 控制 | ||
【主权项】:
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的