[发明专利]压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物及其使用在审

专利信息
申请号: 202080056765.0 申请日: 2020-08-11
公开(公告)号: CN114269875A 公开(公告)日: 2022-04-01
发明(设计)人: 伊藤真树;中村昭宏;须藤通孝 申请(专利权)人: 陶氏东丽株式会社
主分类号: C09J183/04 分类号: C09J183/04;C09J183/07;C09J11/08;B32B7/12;B32B7/06
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 徐舒
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种形成具有实用上充分的固化性和粘合力,并且剪切储能模量和500%应变时的拉伸应力较高的压敏粘接层的、固化反应性的聚有机硅氧烷组合物及其用途。本发明的压敏粘接层形成性聚有机硅氧烷组合物含有:(A)烯基中的乙烯基部分的含量在0.02~0.30质量%的范围内的链状聚有机硅氧烷;(B)羟基等的含量为9摩尔%以下、分子量(Mw)为4500以上的聚有机硅氧烷树脂;(C)有机氢聚硅氧烷以及(D)氢化硅烷化反应催化剂,树脂成分相对于链状硅氧烷成分的质量比在1.4~3.0的范围内,通过所述组合物的固化得到的压敏粘接层的25℃下的剪切储能模量G’为1.0MPa以上,500%应变时的应力为0.50MPa以上。
搜索关键词: 压敏粘接层 形成 有机硅 组合 及其 使用
【主权项】:
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