[发明专利]调制装置、控制装置、光学系统、光刻系统和方法在审
| 申请号： | 202080055084.2 | 申请日： | 2020-07-14 |
| 公开（公告）号： | CN114223134A | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | C.里赫特;M.阿瓦德 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 |
| 主分类号： | H03K11/00 | 分类号： | H03K11/00;H03K7/08;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王蕊瑞 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种根据N位宽输入信号(I)生成1位宽调制信号(PWM)的调制装置(100)，包括：信号分离器(110)，用于生成具有输入信号(I)的M个较高值位的M位宽第一子信号(Xh)，以及用于生成具有输入信号的L个较低值位的L位宽第二子信号(X1)，其中L＝N–M；第一调制单元(120)，用于根据第二子信号(X1)生成1位宽脉冲密度调制信号(PDM)；加和单元(130)，用于根据第一子信号(Xh)和脉冲密度调制信号(PDM)生成M位宽加和信号(Xs)，并且包括第二调制单元(140)，用于根据加和信号(Xs)生成1位宽调制信号(PWM)。 | ||
| 搜索关键词： | 调制 装置 控制 光学系统 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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