[发明专利]微波处理装置在审
| 申请号： | 202080038744.6 | 申请日： | 2020-07-28 |
| 公开（公告）号： | CN113950868A | 公开（公告）日： | 2022-01-18 |
| 发明（设计）人： | 大森义治;细川大介;吉野浩二;前田和树;夘野高史;平本雅祥;小笠原史太佳 | 申请（专利权）人： | 松下知识产权经营株式会社 |
| 主分类号： | H05B6/68 | 分类号： | H05B6/68 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 马建军;曹磊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开的微波处理装置具备：加热室，其收纳被加热物；微波产生部，其产生规定频带中的频率的微波；放大部，其将由微波产生部产生的微波放大；供电部，其将由放大部放大后的微波供给到加热室；检测部，其检测来自供电部的反射功率；以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率，控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率，将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。 | ||
| 搜索关键词： | 微波 处理 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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