[发明专利]微波处理装置在审

专利信息
申请号: 202080038744.6 申请日: 2020-07-28
公开(公告)号: CN113950868A 公开(公告)日: 2022-01-18
发明(设计)人: 大森义治;细川大介;吉野浩二;前田和树;夘野高史;平本雅祥;小笠原史太佳 申请(专利权)人: 松下知识产权经营株式会社
主分类号: H05B6/68 分类号: H05B6/68
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 马建军;曹磊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 微波 处理 装置
【说明书】:

本公开的微波处理装置具备:加热室,其收纳被加热物;微波产生部,其产生规定频带中的频率的微波;放大部,其将由微波产生部产生的微波放大;供电部,其将由放大部放大后的微波供给到加热室;检测部,其检测来自供电部的反射功率;以及控制部。控制部选择规定频带中的多个频率,控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率,将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。

技术领域

本公开涉及具备微波产生部的微波处理装置(Microwave Treatment Device)。

背景技术

在以往的微波处理装置中,已知有根据反射波的量使半导体振荡器中的振荡频率、振荡电平等变化的装置(例如,参照专利文献1)。该现有技术的目的在于保护放大器免受反射波的影响。

其他现有的微波处理装置在加热前一边进行微波的频率扫描一边检测反射功率,使用使反射功率为最小或极小的频率的微波对被加热物进行加热(例如,参照专利文献2)。该现有技术的目的在于提高功率转换效率,并且防止由反射功率导致的微波处理装置的破损。

进而,其他现有的微波处理装置求出微波的入射波的量与反射波的量之差的平均值,在达到了目标平均值的时刻结束或暂时停止微波加热(例如,参照专利文献3)。该现有技术的目的在于得到精度高的干燥品。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开昭56-134491号公报

专利文献2:日本特开2008-108491号公报

专利文献3:日本特开平11-83325号公报

发明内容

在微波处理装置中,除了被被加热物吸收的微波以外,还存在被加热室的壁面吸收的微波。被加热室的壁面吸收的微波的量根据加热室的壁面的材质而发生变化。当被加热室的壁面吸收的微波增加时,检测出的反射功率变少。在该情况下,难以辨别微波是否有效地被被加热物吸收。

若无法根据反射功率的信息来识别被加热物的微波的吸收程度,则难以使微波处理装置高效率地动作。因此,为了掌握烹调的进展,需要温度传感器等要素。其结果,微波处理装置的成本变高。

并且,仅通过检测微波的入射波的量和反射波的量,难以掌握被加热物吸收了多少微波。因此,难以准确地判定加热结束。

本公开的目的在于提供一种微波处理装置,其能够准确地把握烹调的进展,能够对多种多样的被加热物进行适当的加热烹调。

本公开的一个方式的微波处理装置具备:加热室,其收纳被加热物;微波产生部,其产生规定频带中的频率的微波;放大部,其对由微波产生部产生的微波进行放大;供电部,其将由放大部放大后的微波供给到加热室;检测部,其检测来自供电部的反射功率;以及控制部。

控制部选择规定频带中的多个频率,控制微波产生部产生所选择的频率的微波。控制部控制放大部变更微波的输出功率,将多个输出功率中的任意输出功率的微波供给到加热室。控制部基于针对多个输出功率中的第一输出功率以及第二输出功率的微波检测出的反射功率来测定反射波频率特性。

根据本方式,能够准确地把握烹调的进展,能够进行适当的加热烹调。

附图说明

图1是本公开的实施方式的微波处理装置的概略结构图。

图2A是表示实施方式中的反射功率的频率特性的图。

图2B是表示实施方式中的反射功率的频率特性的图。

图2C是表示实施方式中的反射功率的频率特性的图。

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