[发明专利]电子射线应用装置及电子射线应用装置的电子束的射出方法在审
| 申请号： | 202080028780.4 | 申请日： | 2020-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN113692635A | 公开（公告）日： | 2021-11-23 |
| 发明（设计）人： | 西谷智博 | 申请（专利权）人： | 日商光电魂股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/065 | 分类号： | H01J37/065;H01J37/075;H01J37/12;H01J37/26 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 刘军 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种适用于包括光电阴极的电子枪的电子射线应用装置以及该电子射线应用装置的电子束的射出方法。本发明包括电子枪部分、本体部分以及控制部的电子射线应用装置。所述电子枪部分包括光源、通过接收自光源所照射的激发光而射出电子束的光电阴极、以及阳极。所述本体部分包括用以将自所述电子枪部分照射的电子束进行聚焦的物镜。所述控制部至少用以根据自所述光电阴极射出的电子束的尺寸而控制所述物镜的聚焦强度。 | ||
| 搜索关键词： | 电子 射线 应用 装置 电子束 射出 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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