[发明专利]电子射线应用装置及电子射线应用装置的电子束的射出方法

权利要求书

1.一种电子射线应用装置，包括：

电子枪部分；

本体部分；以及

控制部；

所述电子枪部分包括：

光源；

光电阴极，通过接收自所述光源照射的激发光而射出电子束；以及

阳极；

所述本体部分包括：

物镜，用以将自所述电子枪部分照射的所述电子束进行聚焦；

所述控制部至少用以根据自所述光电阴极射出的电子束的尺寸而控制所述物镜的聚焦强度。

2.如权利要求1所述的电子射线应用装置，其中，所述控制部用以控制自所述光源照射的激发光的强度。

3.如权利要求1或2所述的电子射线应用装置，其进一步包括：

激发光尺寸控制部件，用以控制自所述光源照射至所述光电阴极的激发光的尺寸；

所述激发光尺寸控制部件配置于所述光源与所述光电阴极之间。

4.如权利要求1至3中任一项所述的电子射线应用装置，其中：

所述物镜静电透镜；

所述控制部用以控制流入所述静电透镜的电压值。

5.如权利要求1至4中任一项所述的电子射线应用装置，其中：

在所述光电阴极与所述阳极之间配置有中间电极；

所述中间电极具有：

电子束通过孔，用以供自所述光电阴极射出的电子束通过；

在所述电子束通过孔中形成有漂移空间，所述漂移空间在通过施加电压而在所述光电阴极与所述阳极之间形成电场之际可忽视电场的影响。

6.如权利要求1至5中任一项所述的电子射线应用装置，其中，自所述光电阴极射出的所述电子束在所述光电阴极与所述物镜之间未持有焦点。

7.如权利要求5所述的电子射线应用装置，其中，自所述光电阴极射出的所述电子束在所述光电阴极与所述物镜之间持有焦点。

8.如权利要求1至7中任一项所述的电子射线应用装置，其中，所述电子射线应用装置选自于：

自由电子激光加速器；

电子显微镜；

电子射线全像术装置；

电子射线图案化装置；

电子射线绕射装置；

电子射线检查装置；

电子射线金属层积造型装置；

电子射线微影术装置；

电子射线加工装置；

电子射线硬化装置；

电子射线灭菌装置；

电子射线杀菌装置；

电浆产生装置；

原子状元素产生装置；

旋转偏极电子射线产生装置；

阴极发光装置；或

逆光子放射摄谱术装置。

9.一种电子射线应用装置的电子束的射出方法，其中：

所述电子射线应用装置包括电子枪部分、本体部分以及控制部；

所述电子枪部分包括：

光源；

光电阴极，通过接收自所述光源照射的激发光而射出所述电子束；以及

阳极；

所述本体部分包括：

物镜，用以将自所述电子枪部分照射的所述电子束进行聚焦；

所述射出方法包括：

电子束射出步骤，通过接收自所述光源照射的所述激发光而自所述光电阴极射出所述电子束的步骤；

电子束行进步骤，在所述电子束射出步骤所射出的所述电子束朝向配置于所述本体部分的所述物镜而进行行进的步骤；以及

电子束聚焦步骤，利用所述物镜将通过所述电子束行进步骤而抵达所述本体部分的所述电子束进行聚焦的步骤；

在所述电子束行进步骤中，自所述光电阴极射出的所述电子束在抵达所述物镜之前是以未持有焦点的状态进行行进。

10.如权利要求9所述的射出方法，其中：

在所述电子束聚焦步骤中，为了控制所述电子束的聚焦的程度，所述控制部控制所述物镜的聚焦强度。