[发明专利]用于测量光学元件均匀性的测试设备和方法在审

专利信息
申请号: 202080027458.X 申请日: 2020-03-30
公开(公告)号: CN113661374A 公开(公告)日: 2021-11-16
发明(设计)人: 贝亚特·伯梅 申请(专利权)人: 卡尔蔡司医疗技术股份公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G01M11/02;B29D11/00;G01B9/02;G01N21/45
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 张英
地址: 德国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于测量测试设备的光路(5)中光学元件(10)的均匀性的测试设备(1),该测试设备包括干涉仪,该干涉仪包括:单色光源(3);可调节物镜(6);与待测试的光学元件或干涉测量表面(16)的表面相关联的参考面(7),以及用于由参考面(7)和待测试的光学元件的或干涉测量表面(16)的配属的表面反射的光的波前的干涉的分析单元(8)。本发明还涉及一种相应的方法。其目的是提供一种用于高精度测量光学元件均匀性的测试设备和方法,不仅仅是单个表面,而是光学元件的整体,这也特别适用于高精度地测量屈光眼科激光手术的塑料透镜或其他注塑成型部件。该目的通过一参考面来实现,该参考面与在光路中布置在待测试的光学元件后面的光学元件的干涉测量表面的背离测试设备的表面(11)相关联,优选地借助于补偿元件(9)补偿单色像差。
搜索关键词: 用于 测量 光学 元件 均匀 测试 设备 方法
【主权项】:
暂无信息
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