[发明专利]用于测量光学元件均匀性的测试设备和方法

权利要求书

1.一种用于测量光学元件(10)的均匀性的测试设备(1)，所述光学元件具有在所述测试设备(1)的光路(5)中朝向所述测试设备的表面(12)和背离所述测试设备的表面(11)，所述测试设备包括干涉仪(2)，所述干涉仪包括：

-发射单色光的光源(3)，所述单色光特别是激光，所述单色光经由分束器(4)被耦入到所述光路(5)中，

-可调物镜(6)，

-参考面(7)，所述参考面与待测试的所述光学元件(10)的表面相关联，优选在所述干涉仪(2)的所述光路(5)中作为最后的表面，以及

-用于由所述参考面(7)和待测试的所述光学元件(10)的相关联表面反射的光的波前的干涉的分析单元(8)，

其特征在于，所述参考面(7)与所述光学元件(10)的背离所述测试设备的表面(11)相关联。

2.根据权利要求1所述的测试设备(1)，所述测试设备还包括光学的补偿元件(9)，光学的所述补偿元件能够布置在所述干涉仪与待测试的所述光学元件(10)之间的所述光路(5)中，其中，光学的所述补偿元件(9)设置用于补偿由于所述光学元件(10)的预设几何形状形成的单色像差。

3.一种用于测量光学元件(10)的均匀性的测试设备(1)，所述光学元件具有在所述测试设备(1)的光路(5)中朝向所述测试设备的表面(12)和背离所述测试设备的表面(11)，所述测试设备包括干涉仪(2)，所述干涉仪包括：

-发射单色光的光源(3)，所述单色光特别是激光，所述单色光经由分束器(4)被耦入到所述光路(5)中，

-可调物镜(6)，

-参考面(7)，优选在所述干涉仪(2)的所述光路(5)中作为最后的表面，和在待测试的所述光学元件(10)后面的干涉测量表面(16)，其中，所述参考面(7)与所述干涉测量表面(16)相关联，以及

-用于由所述参考面(7)和相关联的所述干涉测量表面(16)反射的光的波前的干涉的分析单元(8)，

其特征在于，

-所述测试设备(1)还包括光学的补偿元件(9)，光学的所述补偿元件能够布置在待测试的所述光学元件(10)与所述干涉测量表面(16)之间的所述光路(5)中，其中，光学的所述补偿元件(9)设置用于补偿由于所述光学元件(10)的预设几何形状的单色像差，以及

-所述光源发射的光在该光于所述干涉测量表面(10)处反射之前和之后穿过待测试的所述光学元件(10)和所述补偿元件(9)。

4.根据权利要求3所述的测试设备(1)，在所述测试设备中，所述干涉测量表面(16)通过所述补偿元件(16)的背离所述测试设备(1)的表面来实现。

5.根据权利要求2至4中任一项所述的测试设备(1)，所述测试设备的光学的所述补偿元件(9)能够在光路(5)中靠近待测试的所述光学元件(10)布置，使得在光学的所述补偿元件(9)与待测试的所述光学元件(10)之间实现几何上最小可行间距。

6.根据权利要求2至5中任一项所述的测试设备(1)，所述测试设备的光学的所述补偿元件(9)针对具有平凹透镜形状的待测试的所述光学元件(10)具有平凸透镜形状。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的测试设备(1)，其中，待测试的所述光学元件(10)是用于屈光激光手术的接触元件。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的测试设备(1)，所述测试设备还包括理想光学参考元件(10R)，所述理想光学参考元件代替待测试的所述光学元件(10)能够布置在所述测试设备(1)的所述光路(5)中，并且所述测试设备被设计用于对所述理想光学参考元件(10R)实施参考测量，并从待测试的所述光学元件(10)的后续测量中减去所述参考测量。

9.根据权利要求1至8中任一项所述的测试设备(1)，在所述测试设备中，待测试的所述光学元件(10)能够以限定的偏差相对于所述测试设备(1)非同心地定位。