[实用新型]电解抛光深度精密测量仪有效
| 申请号： | 202023099624.3 | 申请日： | 2020-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN213778966U | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | 郑轩 | 申请（专利权）人： | 合图智造科技（西安）有限公司 |
| 主分类号： | G01B21/18 | 分类号： | G01B21/18;B25B11/00 |
| 代理公司： | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人： | 李传亮 |
| 地址： | 710000 陕西省西安市未央区红旗东*** | 国省代码： | 陕西;61 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请涉及测量仪器的领域，尤其是涉及电解抛光深度精密测量仪，其包括平台支撑结构、旋转测试台结构和电解抛光支架结构；平台支撑结构包括四个支撑块和呈矩形的支撑体，支撑块通过设置的螺栓连接在支撑体下表面；旋转测试台结构包括平台旋转轴、测试台和滑动轨道，平台旋转轴为一圆柱体，平台旋转轴位于支撑体的圆柱形腔体内；测试台为矩形板，滑动轨道位于测试台上表面的一侧，滑动轨道横截面为工型结构的凸块；电解抛光支架结构设置在滑动轨道上，电解抛光支架结构包括纵向伸缩杆、横向伸缩杆和圆形夹紧器；纵向伸缩杆的下端面设有与滑动轨道相匹配的凹槽；所述圆形夹紧器上用于安装测量仪。本申请具有改善现有测量方法测量精度的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 电解 抛光 深度 精密 测量仪 | ||
【主权项】：
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