[实用新型]一种溅射源靶材独立更换机构

摘要

本发明提供一种溅射源靶材独立更换机构，其包括真空腔体，真空腔体内固定设置有一个内腔体，内腔体内部设置有一个用于镀膜的溅射源，溅射源可拆卸设置于内腔体内，内腔体的一端面与真空腔体端面相接，内腔体与真空腔体内壁相接的端面上设置有一个供溅射源穿过的通道，通道与外部相通，通道处设置有一块可拆卸的压板，压板与通道密封连接；内腔体的侧壁上设置有一个缺口，缺口处设置有一块转动的用于密封缺口的盖板。在对损坏的溅射源进行检修和更换时，保证真空腔体在溅射源维修时真空环境得到保持，节约降温抽真空及回温泄真空的时间；磁控溅射源空间独立，靶材异常时，不需要整体停机，可以连续性生产，提高生产效率，减少产品报废。