[实用新型]一种溅射源靶材独立更换机构

说明书

本发明提供一种溅射源靶材独立更换机构，其包括真空腔体，真空腔体内固定设置有一个内腔体，内腔体内部设置有一个用于镀膜的溅射源，溅射源可拆卸设置于内腔体内，内腔体的一端面与真空腔体端面相接，内腔体与真空腔体内壁相接的端面上设置有一个供溅射源穿过的通道，通道与外部相通，通道处设置有一块可拆卸的压板，压板与通道密封连接；内腔体的侧壁上设置有一个缺口，缺口处设置有一块转动的用于密封缺口的盖板。在对损坏的溅射源进行检修和更换时，保证真空腔体在溅射源维修时真空环境得到保持，节约降温抽真空及回温泄真空的时间；磁控溅射源空间独立，靶材异常时，不需要整体停机，可以连续性生产，提高生产效率，减少产品报废。

技术领域

本发明涉及磁控溅射技术领域，具体涉及一种溅射源靶材独立更换机构。

背景技术

随着科技不断进步，薄膜产品广泛被应用于5G、汽车、新能源等高端领域，其市场的需求不断增大、应用要求逐渐高端化。随着薄膜产品的质量和经济效率不断的提高，真空镀膜设备生产过程中对真空度异常、靶结构漏水、靶头不易更换、靶材溅射异常等造成产品的质量下降、优率下降等问题的控制要求也越来越高。通常的真空磁控溅射卷绕镀膜机主要真空腔体、卷绕机构、溅射源、冷却辊、真空系统组成。当前市面上主要有两种不同方式的溅射源，一种是使用平面式靶材进行溅射，另一种是通过圆柱形的靶材进行旋转进行，设备生产厂家通过两种结构将溅射源集成到磁控溅射设备上，一种是直接将溅射源固定在真空腔体内，另外一种是集成在靶车上。

无论溅射源是固定在真空腔体内还是集成在靶车进出，设备开始进仓进行抽真空后，若发生靶材质量异常、溅射源密封异常等情况，无法单独进行操作，必须将设备进行泄真空，卷绕系统退出后，人员进入腔体内或者靶车退出后才能进行更换，这样对于真空设备来说会浪费很大一部分降温抽真空及回温泄真空的时间，大大降低生产效率。特别是当生产过程中，发生以上所述的突发故障，将影响生产薄膜产品的连续性及影响薄膜产品的性能指标。

发明内容

本发明提供了一种溅射源靶材独立更换机构，解决了现有技术中真空镀膜设备的溅射源出现故障后，更换溅射源的过程中，会造成真空腔体泄气的问题。

为了解决该技术问题，本发明提供了如下技术方案：一种溅射源靶材独立更换机构，包括真空腔体和用于支撑所述真空腔体的支架，真空腔体内固定设置有一个内腔体，所述内腔体内部设置有一个用于镀膜的溅射源，所述溅射源可拆卸设置于内腔体内，内腔体的一端面与真空腔体端面相接，内腔体与真空腔体内壁相接的端面上设置有一个供溅射源穿过的通道，所述通道与外部相通，通道处设置有一块可拆卸的压板，所述压板与通道密封连接；内腔体的侧壁上设置有一个缺口，所述缺口处设置有一块转动的用于密封缺口的盖板。

当溅射源发生故障时，可关闭盖板，将内腔体与真空腔体彼此相互隔离，真空腔体内产品可继续生产；若溅射源均损坏，此时关闭盖板，将内腔体与真空腔体彼此相互隔离，保证真空腔体在溅射源维修时真空环境得到保持，节约降温抽真空及回温泄真空的时间，然后再打开与大气压相连接密封压板，维修人员将位于内腔体的溅射源取出，对其进行故障检修和更换，检修完毕后再将其推入溅射源腔室内，锁上压板，开启真空腔体内的盖板，即可重新使用，一种溅射源靶材独立更换机构对检修溅射源故障时，实现了独立处理，不会因为检修溅射源而导致真空腔体泄真空，保证真空腔体在溅射源维修时真空环境得到保持，节约降温抽真空及回温泄真空的时间，提升了检修和镀膜的工作效率。

进一步地，为了实现对盖板的开合控制，一种溅射源靶材独立更换机构还包括连接杆，所述连接杆的一端穿过所述内腔体与所述盖板顶部连接，另一端位于所述真空腔体外部；所述真空腔体外壁上的设置有一个气缸，所述气缸伸出端上设置有一个呈L形的连接件，位于真空腔体外部的连接杆通过所述连接件与气缸伸出端连接。