[实用新型]一种清洗装置有效
| 申请号： | 202023016001.5 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN214289573U | 公开（公告）日： | 2021-09-28 |
| 发明（设计）人： | 张超;李磊磊;史建伟;张耀文 | 申请（专利权）人： | 山东天岳先进科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B08B1/04 | 分类号： | B08B1/04;B08B13/00;F26B21/00 |
| 代理公司： | 北京君慧知识产权代理事务所(普通合伙) 11716 | 代理人： | 冯妙娜 |
| 地址： | 250118 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种清洗装置，属于半导体清洁技术领域，该清洗装置包括：壳体，所述壳体形成清洁腔室；定位机构，定位机构的夹持部设置在清洁腔室内，夹持部用于夹持待清洁件；出液单元，出液单元的出液口设置在清洁腔室内，出液口中流出的清洁液能够流至待清洁件；擦拭机构，擦拭机构包括擦拭头，擦拭头设置在清洁腔室内，并能够接触待清洁件；出气机构，出气机构的出气口设置在清洁腔室内，出气机构通过出气口向待清洁件吹气。该清洗装置能自动清洗并吹干待清洁件，减少不合格品产出，提高对待清洁件的清洁效率和擦拭效果，减少人力、降低成本，提高待清洁件如晶片的清洁程度，以满足清洁度要求高的待清洁件的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 装置 | ||
【主权项】：
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