[实用新型]一种清洗装置

说明书

本申请公开了一种清洗装置，属于半导体清洁技术领域，该清洗装置包括：壳体，所述壳体形成清洁腔室；定位机构，定位机构的夹持部设置在清洁腔室内，夹持部用于夹持待清洁件；出液单元，出液单元的出液口设置在清洁腔室内，出液口中流出的清洁液能够流至待清洁件；擦拭机构，擦拭机构包括擦拭头，擦拭头设置在清洁腔室内，并能够接触待清洁件；出气机构，出气机构的出气口设置在清洁腔室内，出气机构通过出气口向待清洁件吹气。该清洗装置能自动清洗并吹干待清洁件，减少不合格品产出，提高对待清洁件的清洁效率和擦拭效果，减少人力、降低成本，提高待清洁件如晶片的清洁程度，以满足清洁度要求高的待清洁件的需求。

技术领域

本申请涉及一种清洗装置，属于半导体清洁技术领域。

背景技术

在工业生产中，很多设备部件都会被飞溅上污渍，例如一些设备上装有圆型的灯罩来提供照明，并且配有圆形的玻璃透明镜片，在加工零件时会使用切削液、机油、煤油等，机械加工时油液飞溅到镜片上会存留油污，每加工完一件产品镜片存在油污必须及时清理，如果不及时清理影响照明及观察易产出不合格产品。

现有的操作是通过人工清理、擦拭存在镜片表面的油污，具体是工人使用浸润有清洁液的纸或软布，对镜片进行擦拭清洁，但是在人工擦拭过程中存在擦拭后再污染的问题，并且容易造成镜片损坏。故人工清洁方法工作强度大、擦拭效果差、效率低、存在安全隐患、并且成本高，因此有必要设计一种清洗装置，以克服上述问题。

实用新型内容

为了解决上述问题，本申请提出了一种清洗装置，该清洗装置能自动清洗并吹干待清洁件，待清洁件经清洗吹干后表面不会存留污渍及清洁液，并且吹干过程还可以吹除待清洁件表面颗粒，减少不合格品产出，提高对待清洁件的清洁效率和擦拭效果，减少人力、降低成本，提高待清洁件如晶片的清洁程度，以满足清洁度要求高的待清洁件的需求。

根据本申请的一个方面，提供了一种清洗装置，包括：壳体，所述壳体形成清洁腔室；

定位机构，所述定位机构的夹持部设置在所述清洁腔室内，所述夹持部用于夹持待清洁件；

出液单元，所述出液单元的出液口设置在所述清洁腔室内，所述出液口中流出的清洁液能够流至所述待清洁件；

擦拭机构，所述擦拭机构包括擦拭头，所述擦拭头设置在所述清洁腔室内，并能够接触所述待清洁件；

出气机构，所述出气机构的出气口设置在所述清洁腔室内，所述出气机构通过所述出气口向所述待清洁件吹气。

可选地，所述定位机构包括第一控制臂，所述夹持部设置在所述第一控制臂末端，所述第一控制臂能够伸缩和/或旋转；和/或

所述擦拭机构包括第二控制臂，所述擦拭头设置在所述第二控制臂末端，所述第二控制臂能够伸缩和/或旋转。

可选地，所述定位机构包括第一升降部，所述第一升降部、第一控制臂、夹持部依次连接，所述第一升降部带动所述第一控制臂和夹持部上升和下降；和/或

所述擦拭机构包括第二升降部，所述第二升降部、第二控制臂、擦拭头依次连接，所述第二升降部能够带动所述第二控制臂和擦拭头上升和下降。

可选地，所述定位机构包括第一基座，所述第一控制臂设置在第一基座上；

所述擦拭机构包括第二基座，所述第二控制臂设置在第二基座上；

所述夹持部和擦拭头设置于同一高度上，以使得所述擦拭头能够接触所述加持部夹持的所述待清洁件。

可选地，所述出液单元包括储液箱，所述储液箱设置在所述清洁腔室的顶部，所述储液箱设置进液口和出液口，所述出液口安装出液口开关以控制所述储液箱与所述清洁腔室的连通或断开。