[实用新型]一种GaN基HEMT低温无金欧姆接触电极有效

专利信息
申请号: 202023006193.1 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN215869395U 公开(公告)日: 2022-02-18
发明(设计)人: 王洪;李先辉 申请(专利权)人: 中山市华南理工大学现代产业技术研究院;华南理工大学
主分类号: H01L29/45 分类号: H01L29/45;H01L21/28;H01L29/778;H01L21/335
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 江裕强
地址: 528400 广东省中山*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种GaN基HEMT低温无金欧姆接触电极,包括GaN基HEMT外延层,GaN基HEMT外延层内设置有GaN沟道层,电极包括在GaN基HEMT外延层的上表面从下到上依次排列设置第一金属层Ti、第二金属层Al和第三金属层TiW,或从下到上依次排列设置第一金属层Ti、第二金属层Al、第三金属层Ti和第四金属层TiW。还相应公开了该电极的制备方法。本实用新型有效降低GaN基HEMT欧姆接触的退火温度,改善AlGaN势垒层整体刻蚀造成的2DEG泄露和形成欧姆接触时的电流减少,降低了欧姆接触的形成难度,低温退火合金后的欧姆接触表面形貌及边缘更加平整。同时有助于降低GaN基HEMT器件的制造成本。
搜索关键词: 一种 gan hemt 低温 欧姆 接触 电极
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