[实用新型]一种光学镀膜用的石墨坩埚有效
| 申请号： | 202022440779.2 | 申请日： | 2020-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN213803963U | 公开（公告）日： | 2021-07-27 |
| 发明（设计）人： | 章旭;吴临红;刘辉;刘敏;叶永洋;林鸳;邹维 | 申请（专利权）人： | 江西水晶光电有限公司;江西晶创科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/30 | 分类号： | C23C14/30;C23C14/14 |
| 代理公司： | 鹰潭市智埠专利代理事务所(普通合伙) 36131 | 代理人： | 李水娣 |
| 地址： | 335000 江西*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种光学镀膜用的石墨坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体包括底壁、自底壁往上延伸的下侧壁和上侧壁，所述下侧壁的外径小于所述上侧壁的外径，所述坩埚本体内设有自底壁往上设置圆柱内腔和圆台内腔，所述圆柱内腔和圆台内腔相连通，所述圆台内腔的侧面从下往上逐渐增大，本实用新型在保证相同蒸发速率的情况下，其所需的电子枪能量小，而且锗材料不容易溢出或溅出，又不影响锗的蒸发角度，保证了同一罩产品的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 石墨 坩埚 | ||
【主权项】：
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