[实用新型]一种光学镀膜用的石墨坩埚

说明书

本实用新型提供了一种光学镀膜用的石墨坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体包括底壁、自底壁往上延伸的下侧壁和上侧壁，所述下侧壁的外径小于所述上侧壁的外径，所述坩埚本体内设有自底壁往上设置圆柱内腔和圆台内腔，所述圆柱内腔和圆台内腔相连通，所述圆台内腔的侧面从下往上逐渐增大，本实用新型在保证相同蒸发速率的情况下，其所需的电子枪能量小，而且锗材料不容易溢出或溅出，又不影响锗的蒸发角度，保证了同一罩产品的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及光学镀膜技术领域，尤其是指一种光学镀膜用的石墨坩埚。

背景技术

蒸镀法是一种属于物理气相沉积的真空镀膜技术，真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基板、基片或基体)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

真空镀膜是将蒸镀材料置于一个坩埚之中，通过对坩埚的加热，使坩埚内材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子，然后凝聚到待镀膜的基板表面形成薄膜，该技术广泛应用于光学镜片镀膜、光通讯、太阳能电池及液晶显示等领域。

参照图1所示为现有技术中光驰镀膜机OTFC-1550机台上的石墨坩埚结构示意图，其使用锗材料镀膜，在使用过程中，外壁与坩埚底座紧密配合，冷却效果好，保证相同蒸发速率的情况下，其需要的电子枪能量大，并且坩埚上端直接开口无斜面，如果锗材料水平面高则容易溢出或溅出，锗材料水平面低则会遮挡锗的外圈蒸发角度，进而影响了同一罩产品的均匀性。

实用新型内容

(一)要解决的技术问题

本实用新型目的在于提供一种光学镀膜用的石墨坩埚，在保证相同蒸发速率的情况下，其所需的电子枪能量小，而且锗材料不容易溢出或溅出，又不影响锗的蒸发角度，保证了同一罩产品的均匀性。为实现上述之目的，本实用新型采取如下技术方案：

(二)技术方案

一种光学镀膜用的石墨坩埚，包括坩埚本体，所述坩埚本体包括底壁、自底壁往上延伸的下侧壁和上侧壁，所述下侧壁的外径小于所述上侧壁的外径，所述坩埚本体内设有自底壁往上设置圆柱内腔和圆台内腔，所述圆柱内腔和圆台内腔相连通，所述圆台内腔的侧面从下往上逐渐增大。

进一步，所述圆台内腔的侧面与水平面的夹角均为48°-52°。

进一步，所述上侧壁侧面与上侧壁底面的连接处，所述底壁侧面与底壁底面的连接处均做倒角处理。

(三)有益效果

本实用新型与现有技术相比具有明显的优点和有益效果，具体而言，本实用新型在使用时只有上侧壁与坩埚底座紧密配合，下侧壁与坩埚底座有较大间隙，隔热效果好，仅用210-240mA的电子枪能量就能替代原来500-600mA的电子枪能量达到的相同蒸发速率；在坩埚内设置圆台内腔，锗材料不容易溢出或溅出，又不影响锗的蒸发角度，保证了同一罩产品的均匀性。

附图说明

图1是现有技术的石墨坩埚示意图；

图2是本实用新型的示意图。

附图标号说明：

1、坩埚本体 2、底壁 3、下侧壁

4、上侧壁 5、圆柱内腔 6、圆台内腔

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。