[实用新型]一种用于集成电路加工用反应腔室有效
| 申请号： | 202022242957.0 | 申请日： | 2020-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN213530070U | 公开（公告）日： | 2021-06-25 |
| 发明（设计）人： | 王景文;周梦;朱双利 | 申请（专利权）人： | 武汉市明佳芯源科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B9/093 | 分类号： | B08B9/093;F26B23/06;H01L21/67;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京盛凡智荣知识产权代理有限公司 11616 | 代理人： | 李洪波 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于集成电路加工用反应腔室，涉及集成电路加工设备技术领域，包括底座和反应腔室，所述底座的顶部固定连接有两个支座，所述支座的顶部均固定连接有反应腔室，所述底座的顶部且位于反应腔室的一侧固定连接有加热箱，本实用新型有益增效：设置有清洗组件、第一电机、齿轮、复位杆和滑动套，实现了通过第一电机转动，来实现对整体装置高度的调整，从而保证了清洗的全面性，设置有温度传感器和压力传感器，实现了当检测到内部压力过高时，通过排气阀管道及时排出，避免了压力过大导致一些不必要的问题，及时进行补充所需的热量，整体装置简单易操作，降低了成本，提高了整体的集成电路加工工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 集成电路 工用 反应 | ||
【主权项】：
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