[实用新型]化学机械研磨抛光机台有效
| 申请号： | 202022038604.9 | 申请日： | 2020-09-16 |
| 公开（公告）号： | CN213197048U | 公开（公告）日： | 2021-05-14 |
| 发明（设计）人： | 崔娟 | 申请（专利权）人： | 泉芯集成电路制造(济南)有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/34 | 分类号： | B24B37/34;B24B41/02 |
| 代理公司： | 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人： | 刘曾 |
| 地址： | 250000 山东省济南市*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨抛光机台，涉及半导体技术领域，该化学机械研磨抛光机台包括机台本体和盖板，机台本体具有一带有开口的腔室，开口的边缘设置有密封槽，盖板的边缘设置有密封圈，盖板盖合在开口上并覆盖密封槽，密封圈压合在密封槽的底壁和盖板之间，以使盖板和机台密封连接，盖板上还设置有抽气结构，抽气结构与密封槽连通，用于对密封槽抽气，以防止密封槽内的气体泄漏到外部。相较于现有技术，本实用新型可通过抽气结构的抽气动作将泄漏气体从密封槽中抽走，防止腔室内部的气体由密封槽泄漏到外部，防止腔室内部气体大量外泄，有效防止AMC扩散，并提高了整个装置的安全可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 抛光 机台 | ||
【主权项】：
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