[实用新型]一种光学薄膜加工用退镀系统有效
申请号: | 202021672502.6 | 申请日: | 2020-08-12 |
公开(公告)号: | CN213357804U | 公开(公告)日: | 2021-06-04 |
发明(设计)人: | 范新镇 | 申请(专利权)人: | 西安艾美科光电科技有限公司 |
主分类号: | C25F7/00 | 分类号: | C25F7/00 |
代理公司: | 西安嘉思特知识产权代理事务所(普通合伙) 61230 | 代理人: | 刘长春 |
地址: | 710000 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种光学薄膜加工用退镀系统,包括工作台,所述工作台对称设有挡板,所述工作台靠近挡板的一端通过横板固定连接有气缸,所述气缸的输出轴固定连接有放置板,所述放置板和工作台滑动连接,所述放置板靠近气缸的一端设有压紧机构,所述工作台固定连接有阴极板,所述阴极板和放置板配合设置。本实用新型通过设置一种光学薄膜加工用退镀系统,使得镀膜工序不合格的光学薄膜进行退镀工作时能够进行平整压紧,有效避免薄膜退镀过程中产生折叠,提高薄膜的退镀效果,降低材料的资源浪费,同时通过对压紧机构设置带有压块的压板,能够减少薄膜和压板之间的接触面积,进而提高薄膜退镀工作的充分性,适合范围进行推广。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学薄膜 工用 系统 | ||
【主权项】:
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