[实用新型]抗激光高反膜有效

专利信息
申请号: 202021418468.X 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN212675212U 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 张瑞麟;蔡林林;李江波;曹子玉;孙丹芳;汪平锋 申请(专利权)人: 利基光电科技(九江)有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 332000 江西省九江市经济技*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型公开了一种抗激光高反膜,包括基层,基层上部设有压敏胶层,压敏胶层上部设有过渡介质层,过渡介质层上部设有反射层,反射层的表面设有若干个孔隙,孔隙内填充有荧光粉,反射层的表面为凹凸不平的起伏结构,反射层的上表面黏贴有透明面层。通过设置的过渡介质层,可以使高反膜具有良好的反射率,有效地增加对光线的利用效率,同时减轻高反膜因受热导致的形变和老化现象;通过设置的反射层及空隙,增加了光能传递性。
搜索关键词: 激光 高反膜
【主权项】:
暂无信息
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