[实用新型]抗激光高反膜有效

专利信息
申请号: 202021418468.X 申请日: 2020-07-17
公开(公告)号: CN212675212U 公开(公告)日: 2021-03-09
发明(设计)人: 张瑞麟;蔡林林;李江波;曹子玉;孙丹芳;汪平锋 申请(专利权)人: 利基光电科技(九江)有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 332000 江西省九江市经济技*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 激光 高反膜
【权利要求书】:

1.一种抗激光高反膜,其特征在于,包括基层(1),所述基层(1)上部设有压敏胶层(2),所述压敏胶层(2)上部设有过渡介质层(3),所述过渡介质层(3)上部设有反射层(4),所述反射层(4)的表面设有若干个孔隙(4-1),所述孔隙(4-1)内填充有荧光粉,所述反射层(4)的表面为凹凸不平的起伏结构,所述反射层(4)的上表面黏贴有透明面层(5)。

2.根据权利要求1所述的抗激光高反膜,其特征在于,所述压敏胶层(2)为有机硅压敏胶。

3.根据权利要求1所述的抗激光高反膜,其特征在于,所述反射层(4)由镀铂材料或镀铝材料制成。

4.根据权利要求1所述的抗激光高反膜,其特征在于,所述孔隙(4-1)设置在所述反射层(4)表面的凹陷处。

5.根据权利要求1所述的抗激光高反膜,其特征在于,所述透明面层(5)为高硬度镀膜层,所述透明面层(5)的厚度为30微米。

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