[实用新型]一种保持硅晶片干燥的光刻机有效
| 申请号： | 202021382119.7 | 申请日： | 2020-07-13 |
| 公开（公告）号： | CN212569419U | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 李俊毅 | 申请（专利权）人： | 福建安芯半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;F26B3/30;F26B23/04 |
| 代理公司： | 泉州市兴博知识产权代理事务所(普通合伙) 35238 | 代理人： | 易敏 |
| 地址： | 362300 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光刻机设备领域，尤其涉及一种保持硅晶片干燥的光刻机。本实用新型要解决的技术问题是提供一种能够持续对光刻机内部工作台周围进行干燥避免硅片存在水汽而影响光刻效果的光刻机。一种保持硅晶片干燥的光刻机，包括有整体外壳、工件传输装置、激光光路设备、掩模台、掩模板、投影物镜、控制台和芯片；工件传输装置固接于整体外壳外壁；掩模传输设备固接于整体外壳内侧壁；激光光路设备固接于整体外壳；掩模台固接于激光光路设备底部；掩模板夹于激光光路设备与掩模台之间；投影物镜固接于掩模台底部。本实用新型达到了能够持续对光刻机内部工作台周围进行干燥避免硅片存在水汽而影响光刻效果的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 保持 晶片 干燥 光刻 | ||
【主权项】：
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