[实用新型]一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构有效
| 申请号： | 202021081901.5 | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN212819752U | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 罗晴 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | B01J3/03 | 分类号： | B01J3/03;C23C14/35 |
| 代理公司： | 安化县梅山专利事务所 43005 | 代理人： | 潘访华 |
| 地址： | 361005 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，包括底座、外壳、第一支撑板和第二支撑板，所述底座的顶端面焊接有第一支撑板和第二支撑板，且第一支撑板和第二支撑板背离底座的一端焊接有顶板,所述外壳通过第二转轴转动安装在第二支撑板上，所述外壳内转动安装有第一转轴，且第一转轴上嵌入固定有搅拌杆，所述外壳的顶端面嵌入固定有进料管，且进料管上转动安装有第二盖板，第二盖板通过第二卡箍限位固定在进料管上，所述外壳的底端面嵌入固定有出料管，出料管上转动安装有第一盖板，且第一盖板通过第一卡箍限位固定在出料管上。本实用新型具备操作便捷，密闭性更佳和实用性更佳的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 方法 制备 pd 催化剂 真空 备用 密封 结构 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于厦门大学，未经厦门大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202021081901.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种可调式庭院灯
- 下一篇：一种Pd基催化剂制备用负载骨架
