[实用新型]一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构有效
| 申请号： | 202021081901.5 | 申请日： | 2020-06-12 |
| 公开（公告）号： | CN212819752U | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 罗晴 | 申请（专利权）人： | 厦门大学 |
| 主分类号： | B01J3/03 | 分类号： | B01J3/03;C23C14/35 |
| 代理公司： | 安化县梅山专利事务所 43005 | 代理人： | 潘访华 |
| 地址： | 361005 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 方法 制备 pd 催化剂 真空 备用 密封 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，包括底座(1)、外壳(2)、第一支撑板(6)和第二支撑板(14)，其特征在于：所述底座(1)的顶端面焊接有第一支撑板(6)和第二支撑板(14)，且第一支撑板(6)和第二支撑板(14)背离底座(1)的一端焊接有顶板(9),所述外壳(2)通过第二转轴(13)转动安装在第二支撑板(14)上。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，其特征在于：所述外壳(2)内转动安装有第一转轴(8)，且第一转轴(8)上嵌入固定有搅拌杆(15)。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，其特征在于：所述外壳(2)的顶端面嵌入固定有进料管(12)，且进料管(12)上转动安装有第二盖板(10)，第二盖板(10)通过第二卡箍(11)限位固定在进料管(12)上。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，其特征在于：所述外壳(2)的底端面嵌入固定有出料管(4)，出料管(4)上转动安装有第一盖板(3)，且第一盖板(3)通过第一卡箍(5)限位固定在出料管(4)上。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射方法制备Pd基催化剂用高真空设备用密封结构，其特征在于：所述第一支撑板(6)的外表面焊接有机箱(7)。
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