[实用新型]一种用于硅片污染物回收的吸嘴装置有效
| 申请号： | 202020704346.0 | 申请日： | 2020-04-30 |
| 公开（公告）号： | CN211788936U | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | 朴灵绪 | 申请（专利权）人： | 苏州恩腾半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 苏州铭浩知识产权代理事务所(普通合伙) 32246 | 代理人： | 朱斌兵 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工业园区*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于硅片污染物回收的吸嘴装置，包括可上下移动相连的上吸嘴组件和下吸嘴组件；上吸嘴组件包括扫描托架，扫描托架内设有内部吸嘴；扫描托架上还设有两个气体注入部、气体排出部和压力测量部；下吸嘴组件包括位于外部吸嘴支架内的外部吸嘴；外部吸嘴与外部吸嘴支架内壁的上部紧密配合，外部吸嘴与外部吸嘴支架内壁的下部之间留有第一间隙；外部吸嘴的上部两侧开有与第一通道相通的第一间隙；内部吸嘴设置在外部吸嘴内，两个气体注入部分别通过对应的第一通道与第一间隙相通；气体排出部和压力测量部与外部吸嘴的中空内部相通，本实用新型能有效将硅片上的污染物溶解后排出进行分析，且能快速将外部吸嘴和内部吸嘴分离并清洗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 硅片 污染物 回收 装置 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
