[实用新型]用于等离子体处理系统的边缘环和包括该边缘环的系统有效
| 申请号： | 202020586711.2 | 申请日： | 2020-04-20 |
| 公开（公告）号： | CN212874424U | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 克里斯托弗·金博尔;汤姆·A·坎普;赫马·斯瓦鲁普·莫皮迪维 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | H01J37/21 | 分类号： | H01J37/21;H01J37/09;H01J37/305;H01J37/32 |
| 代理公司： | 上海胜康律师事务所 31263 | 代理人： | 李献忠;张华 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种用于等离子体处理系统的边缘环，所述边缘环包括：环形体；从所述环形体向下延伸的径向内支腿；以及从所述环形体向下延伸的径向外支腿。空腔位于所述径向内支腿和所述径向外支腿之间。P个凹槽配置为容纳边缘环提升销。所述P个凹槽的间距为360°/P。所述P个凹槽位于所述径向外支腿的径向内表面上，与所述径向外支腿的底表面相邻，其中，P为大于2的整数。还涉及包括该边缘环的系统。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 等离子体 处理 系统 边缘 包括 | ||
【主权项】：
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