[实用新型]一种等离子体原子层沉积的反应装置

摘要

本实用新型属于薄膜材料真空制备领域，具体涉及一种等离子体原子层沉积的反应装置，包括反应腔体，所述反应腔体内设置有载具，所述载具为至少一组平行排列的平板，平板间隔连接并引出反应腔体外，分别接等离子电源的两极，加热炉管环绕反应腔体设置，所述反应腔体的一端设置有出气端，出气端与真空泵连接；所述反应腔体还设置有至少一个进气端、端部进气口以及中部进气口，所述进气端与端部进气口、中部进气口连接，所述进气端向外与气源连接。本实用新型通过中间进气口的设计，优化腔体内部气流均匀性，从而进一步提升所镀薄膜的片间厚度均匀性。